Trung Quốc vừa công bố một bước tiến quan trọng trong ngành công nghiệp bán dẫn với chiếc máy quang khắc tự sản xuất đầu tiên. Tuy nhiên, liệu cỗ máy này có đủ sức thay thế công nghệ EUV tiên tiến từ phương Tây?

Trong cuộc đua công nghệ toàn cầu, khả năng sản xuất chip tiên tiến đã trở thành một yếu tố then chốt. Trung Quốc đang đối mặt với những thách thức lớn do các lệnh cấm vận của Mỹ và Hà Lan, khiến họ không thể tiếp cận các máy quang khắc cực tím (EUV) tối tân từ ASML – công ty độc quyền trên thế giới. Đây chính là lý do khiến Trung Quốc bị bỏ lại phía sau trong cuộc đua sản xuất chip dưới 7nm.

Tuy nhiên, mọi thứ có thể đang thay đổi. Mới đây, Trung Quốc đã công bố cỗ máy quang khắc chùm điện tử (e-beam lithography) đầu tiên do họ tự sản xuất, mang tên “Xizhi”.

Bước tiến của công nghệ E-beam

Máy “Xizhi”, được phát triển tại Đại học Chiết Giang, sử dụng các chùm electron tập trung để khắc các mẫu mạch lên tấm wafer silicon. Với khả năng khắc các đường mạch chỉ 8nm và độ chính xác 0.6nm, cỗ máy này đáp ứng được các tiêu chuẩn quốc tế và được ví như một “cây bút nano” có thể vẽ một thành phố lên một sợi tóc.

Theo tờ Hangzhou Daily, việc ra mắt “Xizhi” sẽ giúp các tổ chức nghiên cứu hàng đầu của Trung Quốc, vốn bị cấm mua máy EUV, có được một công cụ quan trọng để phát triển chip.

Vì sao E-beam chưa thể thay thế EUV?

Mặc dù là một bước tiến quan trọng, máy quang khắc chùm điện tử vẫn có một nhược điểm lớn: tốc độ sản xuất. Trong khi máy EUV có thể khắc toàn bộ mẫu mạch chỉ trong một lần chiếu sáng, thì máy e-beam lại khắc từng điểm một, cực kỳ chậm.

Do đó, dù “Xizhi” là một công cụ đắc lực cho giai đoạn nghiên cứu và phát triển, nó chưa phải là “vũ khí bí mật” giúp Trung Quốc vượt qua các lệnh trừng phạt trong lĩnh vực sản xuất chip hàng loạt. Tuy nhiên, đây vẫn là một tín hiệu cho thấy sự quyết tâm của Trung Quốc trong việc tự chủ công nghệ bán dẫn.